28-高芸苔素内酯对韭中腐霉利残留量的影响
王美美, 朱宝玉, 余婷煜, 邢高山, 廖灿, 朱祥, 李俊凯
2025, 64(6):
167-170.
doi:10.14088/j.cnki.issn0439-8114.2025.06.028
摘要
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多维度评价
为探明28-高芸苔素内酯对韭中腐霉利残留量的影响,以28-高芸苔素内酯为供试药剂,设置7个用药处理,以喷施腐霉利但未喷施28-高芸苔素内酯的处理为对照。利用QuEChERS技术进行样品前处理,GC-MS法测定各处理韭中腐霉利的残留量。结果表明,喷施28-高芸苔素内酯后,药后1 d韭中腐霉利残留量均高于对照。在高剂量条件下(0.20、0.10 mg/L),无论是药前喷施1次28-高芸苔素内酯,还是在药前药后喷施2次28-高芸苔素内酯,药后1 d韭中腐霉利的残留量均高于其他处理,说明高剂量28-高芸苔素内酯在短时间内会促进腐霉利的吸收。药后2 d,所有处理韭中腐霉利残留量快速降低,但喷施0.20 mg/L 28-高芸苔素内酯1次和2次以及喷施0.10 mg/L 28-高芸苔素内酯2次的处理,韭中腐霉利残留量仍然高于对照。从药后3βd开始,经过28-高芸苔素内酯处理后,韭中腐霉利的残留量快速下降,并且处理2次与处理1次相比,韭中腐霉利降解得更快。腐霉利处理韭后,自然状态下残留量逐渐降低,降解曲线方程为y=8.934 4e-0.197t,相关系数(r)为0.985 4,降解的半衰期(T1/2)为3.52 d。喷施28-高芸苔素内酯后,所有处理韭中腐霉利的降解半衰期均低于对照,说明28-高芸苔素内酯能有效促进韭中腐霉利的降解。